Lịch sử Chế tạo dạng tự do bằng chùm tia điện tử

Trung tâm nghiên cứu NASA Langley (LaRC) chính là nơi khởi nguồn (EBF3) của tiến bộ công nghệ này. Phương pháp sản xuất bồi đắp ban đầu được nghiên cứu và ứng dụng bởi Karen Taminger, một kĩ sư chuyên về nghiên cứu vật liệu bởi NASA LaRC. EBF3 là công nghệ sản xuất bồi đắp do NASA phát minh  được thiết kế để sản xuất các chi tiết có biên dạng gần đúng có thể để tiết kiệm vật liệu thô và hạn chế gia công bề mặt hoàn thiện hơn so với phương pháp truyền thống. EBF3 được NASA hoạch định để sản xuất các chi tiết kim loại trong môi trường không trọng lực; Quá trình sản xuất theo lớp này sử dụng chùm electron và vật liệu thô dạng dây rắn để tạo ra các cấu trúc kim loại. Hiệu quả quá trình của tia electron và vật liệu thô làm cho  EBF3 thích hợp cho việc sử dụng trong không gian. Kể từ năm 2000, một nhóm các nhà nghiên cứu ở NASA LaRC đã được cho phép nghiên cứu cơ bản và phát triển kĩ thuật này dùng sản xuất bồi đắp cho các cấu trúc kim loại trong không gian. Sản xuất bồi đắp là các quá trình trong đó các bộ phận được xây dựng bằng cách liên tục thêm vật liệu thay vì cắt hoặc mài như trong gia công thông thường. Sản xuất đắp dần là sự phát triển nhanh chóng của các kỹ thuật tạo mẫu nhanh như in li-tô lập thể, được phát triển ban đầu cho các bộ phận nhựa phi cấu trúc hơn 30 năm trước.[1]